2013年10月20-25日国际ISO/TC206年会在日本东京举行。会议主旨议题是讨论精细陶瓷领域相关工业标准议案。
我国于2008年开始作为主导国向ISO/TC206提案，制定“可见光照射下的半导体光催化材料的抗菌性能测试方法”【 Fine ceramics (advanced ceramics, advanced technical ceramics) - Test method for antimicrobial performance of semiconducting photocatalytic materials under visible light】 ISO标准， 该标准组织工作由专委会承担。今年该提案的DIS17094已经进入最后阶段，预计在明年可以公布发表。这是中国参与的第一个光催化相关的ISO标准。
本次会议由中科院理化技术研究所研究员，中国感光学会光催化专业委员会秘书长只金芳作为中方提案代表参加了本次会议并接受了来自各成员国的专家的技术提问，提案最终获得全票通过。
会议同期还参与了 “Committee of Asian Standardization for photocatalytic Material and Products, CASP 2013” 会议。参加国家有中国， 日本， 马来西亚， 韩国， 越南，印度尼西亚，印度等亚洲国家的标准化委员会负责人及光催化研究及标准制定等专家学者。只金芳秘书长应邀在大会上发表了“Progress of Applied Research and Standardization on TiO2 photocatalytical Technology in China”的演讲，汇报了中国在这个领域内的新发展， 会议还一起讨论了今后在相关可见光光催化材料的标准制定，产品的相互认证方面的方法等。我国在这方面的研究工作还有待加强，通过多种形式的国际交流可以促进我国光催化研究、产业方面的发展和提升。
